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它与试件上的磁通密度有关 它与缺陷的高度有关 磁化方向与缺陷垂直时漏磁通最大 以上都对
缺陷方向与磁力线平行时, 漏磁场最大 漏磁场的大小与工件的磁化程度无关 漏磁场的大小与缺陷的深度和宽度的比值有关 缺陷所产生的漏磁场, 随缺陷的埋藏深度增加而增大
内部缺陷处的漏磁通, 比同样大小的表面缺陷为大 缺陷的漏磁通通常同试件上的磁通密度成反比 表面缺陷的漏磁通密度, 随着离开表面距离的增加而急剧减弱 用有限线圈磁化长的试件, 不需进行分段磁化
磁力线所经过的路线 主磁通形成闭合回路所经过的路径 漏磁通形成闭合回路所经过的路径 主磁通与漏磁通共同经过的路径
缺陷方向与磁力线平行时, 漏磁场最大 漏磁场的大小与工件的材质无关 漏磁场的大小与缺陷的深度比有关 工件表层下缺陷所产生的漏磁场, 随缺陷的埋藏深度增加而增大
磁化强度为一定时, 缺陷高度小于 1mm 的形状相似的表面缺陷, 其漏磁通与缺陷高度无关 缺陷离试件表面越近, 缺陷漏磁通越小 在磁化状态、 缺陷种类和大小为一定时, 缺陷漏磁通密度受缺陷方向影响 交流磁化时, 近表面缺陷的漏磁通比直流磁化时要小 当磁化强度、 缺陷种类和大小为一定时, 缺陷处的漏磁通密度受磁化方向的影响 c, d 和 e 都对
缺陷离试件表面越近,形成的漏磁通越小 在磁化状态、缺陷类型和大小为一定时,其漏磁通密度受缺陷方向影响 交流磁化时,近表面缺陷的漏磁通比直流磁化时的漏磁通要小 在磁场强度、缺陷类型和大小为一定时,其漏磁通密度受磁化方向影响; 除A以外都对
磁力线所经过的路线 主磁通形成闭合回路所经过的路径 漏磁通形成闭合回路所经过的路径 主磁通与漏磁通共同经过的路径
用线圈法磁化时, 线圈的形状与磁场强度无关 喷咀喷洒磁悬液时的压力对缺陷磁痕的形成有很大影响 交流磁化装置不易发现表面缺陷, 但能发现近表面缺陷
它与试件上的磁通密度有关 它与缺陷的高度有关 磁化方向与缺陷垂直时漏磁通最大 以上都对
内部缺陷处的漏磁通, 比同样大小的表面缺陷为大 缺陷的漏磁通通常同试件上的磁通密度成反比 表面缺陷的漏磁通密度, 随着离开表面距离的增加而急剧减弱 用有限线圈磁化长的试件, 不需进行分段磁化
用线圈法磁化时,线圈的形状与磁场强度无关 喷嘴喷洒磁悬液时的压力对缺陷磁痕的形成有很大影响 交流磁化装置不易发现表面缺陷,但能发现近表面缺陷 A、B和C
内部缺陷处的漏磁通,比同样大小的表面缺陷为大 缺陷的漏磁通通常同试件上的磁通密度成反比 表面缺陷的漏磁通密度,随着离开表面距离的增加而急剧减弱 用有限线圈磁化长的试件,不需进行分段磁化
缺陷离试件表面越近, 形成的漏磁通越小 在磁化状态、 缺陷类型和大小为一定时, 其漏磁通密度受缺陷方向影响 交流磁化时, 近表面缺陷的漏磁通比直流磁化时的漏磁通要小 在磁场强度、 缺陷类型和大小为一定时, 其漏磁通密度受磁化方向影响; 除 A 以外都对
内部缺陷处的漏磁通,比同样大小的表面缺陷为大 缺陷的漏磁通通常同试件上的磁通密度成反比 表面缺陷的漏磁通密度,随着离开表面距离的增加而急剧减弱 用有限线圈磁化长的试件,不需进行分段磁化