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远中颊角区 下颌牙槽嵴 后堤区 下颌舌骨嵴 上颌牙槽嵴
唇颊系带 磨牙后垫 下颌舌骨嵴 下颌隆突 远中颊角区
与主承托区黏膜密合 与副承托区黏膜贴合 边缘封闭区对组织稍许压力 缓冲区相应的组织面应作缓冲 组织面粗磨、细磨后抛光
与主承托区黏膜密合 与副承托区黏膜贴合 边缘封闭区对组织稍许压力 缓冲区相应的组织面应做缓冲 组织面粗磨、细磨后抛光
与主承托区黏膜密合 与副承托区黏膜贴合 边缘封闭区对组织稍许压力 缓冲区相应的组织面应作缓冲 组织面粗磨、细磨后抛光
基托唇颊侧系带区边缘缓冲过多 基托舌系带区边缘缓冲过多 基托过长过厚 基托过短 基托过薄
唇颊系带 磨牙后垫 下颌舌骨嵴 下颌隆突 远中颊角区
与主承托区黏膜密合 与副承托区黏膜贴合 边缘封闭区对组织稍许压力 缓冲区相应的组织面应作缓冲 组织面粗磨、细磨后抛光
与主承托区黏膜密合 与副承托区黏膜贴合 边缘封闭区对组织稍许压力 缓冲区相应的组织面应作缓冲 组织面粗磨、细磨后抛光
与主承托区黏膜密合 与副承托区黏膜贴合 边缘封闭区对组织稍许压力 缓冲区相应的组织面应作缓冲 组织面粗磨、细磨后抛光
与主承托区黏膜密合 与副承托区黏膜贴合 边缘封闭区对组织稍许压力 缓冲区相应的组织面应作缓冲 组织面粗磨、细磨后抛光
与主承托区黏膜密合 与副承托区黏膜贴合 边缘封闭区对组织稍许压力 缓冲区相应的组织面应作缓冲 组织面粗磨、细磨后抛光
与主承托区黏膜密合 与副承托区黏膜贴合 边缘封闭区对组织稍许压力 缓冲区相应的组织面应作缓冲 组织面粗磨、细磨后抛光
与主承托区黏膜密合 与副承托区黏膜贴合 边缘封闭区对组织稍许压力 缓冲区相应的组织面应作缓冲 组织面粗磨、细磨后抛光
基托伸展过长 印模不准确 进入倒凹区基托未缓冲 基托变形 与硬区相应的基托组织面未做缓冲