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过度背景产生的原因有哪些?对磁痕的分析有何影响?

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磁写  伪显示  相关显示  原因不明  
磁痕显示按长度与宽度之比产生原因可分为条状磁痕、 圆形磁痕  按产生原因可分为相关显示、 非相关显示  缺陷磁痕长轴的方向可分为周向缺陷磁痕、 轴向缺陷磁痕。  以上都是  
磨削裂纹的磁痕特征之一是其方向一般垂直于磨削方向  磁化电流过大会产生伪显示, 其特征是: 磁痕浓密清晰, 沿金属流线分布  疲劳引 起的裂纹, 是属于加工过程中引 起的缺陷  应力腐蚀裂纹的磁痕特征是: 磁痕浓度较高, 多发生在试件上应力集中的部位, 一般为单条的线性显示  
掩盖细小缺陷的磁痕,是对比度下降  影响磁悬液的流动  检测灵敏度太高,容易产生伪显示  在工件上不流动,容易产生过度背景  
掩盖细小缺陷的磁痕, 是对比度下降  影响磁悬液的流动  检测灵敏度太高, 容易产生伪显示  在工件上不流动, 容易产生过度背景  
掩盖细小缺陷的磁痕, 使对比度下降  影响磁悬液的流动  检测灵敏度太高, 容易产生伪显示  在工件上不流动, 容易产生过度背景  

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