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C、N和Si能形成多种高硬度材料，如Si3N4，C3N4，SiC． （1）Si3N4和C3N4中硬度较高的是 ，理由是 ． （2）C和N能形成一种类石墨结构材料，其合成过程如图1所示．该...
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高三下学期化学《》真题及答案
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C3N4和Sl3N4晶体中结构相似是新型的非金属高温陶瓷材料下列说法正确的是
C
3
N
4
和Sl
3
N
4
晶体中N.的化合价为+3价
C
3
N
4
和Si
3
N
4
晶体中含有共价键
C
3
N
4
晶体的硬度比Si
3
N
4
晶体的硬度小
C
3
N
4
和Si
3
N
4
晶体均为分子晶体
氮化硅Si3N4是一种新型陶瓷材料的主要成分耐高温常于制造业航天领域Si3N4中硅元素Si的化合价为
＋2
＋3
＋4
－4
氮化硅是一种新型陶瓷材料的主要成分能承受高温可用于制造业航天业等领域已知氮硅的原子结构示意图依次为请
Si
3
N
4
Si
4
N
3
Si
3
N
7
Si
7
N
3
氮化硅Si3N4是一种新型陶瓷材料的主要成分耐高温常于制造业航天领域Si3N4中硅元素Si的化合价为
＋2
＋3
＋4
－4
氮化硅Si3N4是一种非氧化物高温陶瓷结构材料粉末状的Si3N4可以由SiCl4的蒸气和NH3的混合
氮化硅Si3N4是一种新型陶瓷材料它可由石英与焦炭在高温的氮气流中反应制得①3SiO2+6C+2N2
反应②属于离子反应
若制取等量的Si
3
N
4
，则反应①②转移电子数目必然相等
反应①的氧化剂是N
2
反应①中氧化产物与还原产物物质的量之比为1:6
氮化硅Si3N4是一种新型陶瓷材料的主要成分耐高温常用于制造业航天领域.Si3N4中硅元素Si的化合
+2
+3
+4
﹣4
氮化硅的晶型及特点α-Si3N4低温型1400—1600℃硬度高不稳定β-Si3N4高温型长柱状或斜
03上海市氮化硅是一种新型陶瓷材料的主要成分能承受高温可用于制造业航天业等领域已知氮硅的原子结构示意
Si
3
N
7
Si
4
N
3
Si
3
N
4
Si
7
N
3
氮化硅Si3N4是一种新型陶瓷材料它可由石英与焦炭在高温的氮气流中通过以下反应制得3SiO2+6C+
该反应的氧化剂是SiO
2
和N
2
生成1mol Si
3
N
4
时共转移6mol电子
该反应中氧化剂和还原剂质量比为9﹕7
该反应的还原产物为Si
3
N
4
氮化硅Si3N.4是一种新型陶瓷材料的主要成分耐高温常用于制造业航天领域.Si3N.4中硅元素Si的
+2
+3
+4
﹣4
国产大飞机C.919首飞成功C.919大飞机采用的复合材料中使用了高温陶瓷材料氮化硅Si3N4下列说
Si
3
N
4
中Si为-4价.则N.为-4价
Si
3
N
4
中Si、N.元素的质量比为3：4
Si
3
N
4
中N.元素的质量分数最小
氮气的化学性质不活泼，不与任何物质反应
氮化硅Si3N4是一种新型陶瓷材料它可由石英与焦炭在高温的氮气流中通过以下反应制得3SiO2+6C+
Si
3
N
4
的摩尔质量是154g
在氮化硅的合成反应中，N
2
是还原剂，SiO
2
是氧化剂
Si
3
N
4
既是氧化产物，又是还原产物
1molSiO
2
发生反应，
N
2
得到4mol电子
C3N4和Si3N4晶体结构相似是新型的非金属高温结构陶瓷下列说法正确的是
C
3
N
4
和Si
3
N
4
晶体中含有共价键
C
3
N
4
和Si
3
N
4
中N.的化合价为 +3
C
3
N
4
和Si
3
N
4
易与水反应生成NH
3
C
3
N
4
晶体的硬度比Si
3
N
4
晶体的硬度小
Si3N4材料在半导体工艺中能否用作层间介质为什么请举两例说明Si3N4在集成电路工艺中的应用
氮化硅是一种新型陶瓷材料的主要成分能承受高温可用于制造业航天业等领域已知氮硅的原子结构示意图依次为N
Si
3
N
4
Si
4
N
3
Si
3
N
7
Si
7
N
3
下列判断错误的是
熔点：Si3N4>NaCl>SiCl4
沸点：NH3>PH3>AsH3
酸性：HClO4>H2SO4>H3PO4
碱性：NaOH>Mg(OH)2>Al(OH)3
工业上制取氮化硅的化学反应原理是3Si十2N21300℃R.则氮化硅的化学式为
SiN
NSi
Si
3
N
4
N
4
Si
3
03上海市氮化硅是一种新型陶瓷材料的主要成分能承受高温可用于制造业航天业等领域已知氮硅的原子结构示意
Si
4
N
3
Si
7
N
3
Si
3
N
7
Si
3
N
4
神六成功了我们为之自豪我们要学着了解科学了解物质氮化硅是一种新型陶瓷材料的主要成分能承受高温可用于制
Si
3
N
4
Si
4
N
3
Si
3
N
7
Si
7
N
3
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