X射线照相时使用的电压值高或低，其衬度不变

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荧光屏观察法高 KV 值射线照相法低 KV 值射线照相法干板射线照相法

降低X射线管的管电流增大X射线管的管电流降低X射线管的管电压增大X射线管的管电压

透照电压应尽可能低透照电压应与透照厚度相适应透照电压不应超过允许的最高值以上都是

荧光屏观察法高KV值射线照相法低KV值射线照相法干板射线照相法

射线的能量低穿透力小；射线不集中，强度小；照相黑度不易控制；照相清晰度差。

越高不变越小随机变化

降低X 射线管的管电流增大X 射线管的管电流降低X 射线管的管电压增大X射线管的管电压

40KV曝光时，衬度高，曝光范围比50KV时大 50KV曝光时，衬度低，曝光范围比40KV时大 40KV曝光时，衬度较低，曝光范围比50KV时大 50KV曝光时，衬度高，曝光范围比40KV时大

40KV 曝光时，衬度高，曝光范围比 50KV 时大 50KV 曝光时，衬度低，曝光范围比 40KV时大 40KV 曝光时，衬度较低，曝光范围比 50KV 时大 50KV 曝光时，衬度高，曝光范围比40KV 时大

越高不变越小随机变化

透照电压应尽可能低透照电压应与透照厚度相适应透照电压不应超过允许的最高值以上都是

X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、射线能量 X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、曝光量 X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、透照厚度 X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、暗室处理的工艺条件

大焦点、近距离小焦点、较长的焦距高管电压、低管电流低管电压、高管电流

大焦点、近距离小焦点、较长的焦距高管电压、低管电流低管电压、高管电流