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记存研究模型的修整，基底部分的高约为解剖部分的（）

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下列哪种印模时必须做肌功能修整

功能性印模记存印模参考印模对颌牙印模解剖式印模

以研究模型的唇颊侧的黏膜反折处为界模型可分为2部分正确叙述是

向

面为基底部分、向底面为解剖部分向

面为解剖部分、向底面为基底部分工作部分、非工作部分组织面、磨光面组织面、解剖面

记存研究模基底部分的高度约为解剖部分高度的

1/5～1/4 1/3～1/2 5倍 5倍 5倍

记存的研究模型分解剖部分和基底部分基底部分的高度约为解剖部分的

1／5～1／4 1/4～1／3 1／3～1／2 1/2～2/3 1

制作可卸代型时修整后的工作模型底部到牙颈部的厚度约为

5mm 5cm 7mm 7cm 8mm

记存研究模型基底部分的高度约为解剖部分高度的

1/3～1/2倍 1～1.5倍 1.5～2倍 2.5～3倍 1/5～1/4

下列哪种印模时必须做肌功能修整

功能性印模记存印模参考印模对颌牙印模解剖式印模

记存的研究模型分解剖部分和基底部分基底部分的高度约为解剖部分的

1/5～1/4 1/4～1/3 1/3～1/2 1/2～2/3 1

存的研究模型分解剖部分和基底部分基底部分的高度约为解剖部分的

1/5～1／4 1／4～1／3 1／3～1／2 1／2～2/3 1

记存的研究模型分解剖部分和基底部分基底部分的高度约为解剖部分的

1/5～1／4 1／4～1／3 1／3～1／2 1／2～2/3 1

记存研究模型的修整基底部分的高约为解剖部分的

1/5～1/3 1/4～1/2 1/2～3/4 1/3～1/2 2/3～3/4

使用下列哪种印模时必须做肌功能修整

功能性印模记存印模参考印模对颌牙印模解剖式印模

用来记录存放的研究模型分为解剖部分和基底部分基底部分的高度约为解剖部分的

1/5～1/4 1/4～1/3 1/3～1/2 1/2～2/3 1

以研究模型的唇颊侧的粘膜反折处为界模型可分为两部分正确的叙述是

向

面为基底部分，向底面为解剖部分向

面为解剖部分，向底面为基底部分工作部分，非工作部分组织面，磨光面组织面，解剖面

以下哪种印模时必须做肌功能修整

功能性印模记存印模参考印模对颌牙印模解剖式印模

记存的研究模型分解剖部分和基底部分基底部分的高度约为解剖部分的

1／5～1／4 1／4～1／3 1／3～1／2 1／2～2／3 1

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