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布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起()内,仍可以向国务 院知识产权行政部门提出登记申请。( )

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10 年, 自布图设计创作完成之日起计算  15 年, 自布图设计登记申请之日起计算  15 年, 自布图设计首次投入商业利用之日起计算  10 年, 自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日 起计算  
提交的申请文件要有布图涉及登记申请表  布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未向国家知识产权局提出登记申请的,国家知识产权局可以适当宽限日期  布图设计登记申请初审主要是对布图设计申请材料和其他手续的审查  国家知识产权局负责对驳回布图设计登记申请决定不服提出的复审请求进行审查,以及负责对布图设计专有权撤销案件进行审查  
布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生  未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护  无论是否登记或者投入商业利用,布图设训自创作完成之日起10年后,不再受集成电路布图设计保护条例的保护  布图没计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记  
以登记为保护条件的成员可以规定,布图设计的保护期间为自登记申请提交之日起10年  以登记为保护条件的成员可以规定,布图设计的保护期间为自其在世界上任何地方第一次商业利用之日起10年  不以登记为保护条件的成员可以规定,布图设计的保护期间为自其在世界上任何地方第一次商业利用之日起10年  成员可以规定,布图设计自创作以后15年保护终止  
10年,自布图设计创作完成之日起计算  15年,自布图设计登记申请之日起计算  15年,自布图设计首次投入商业利用之日起计算  10年,自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算  
布图设计专有权的保护期为10年  无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,仍然受条例保护  自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较晚日期为准  布图设计专有权属于布图设计创作者  布图设计专有权属于法人或者其他组织的,法人或者其他组织变更、终止后,其专有权在本条例规定的保护期内由承继其权利、义务的法人或者其他组织享有  
布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生  未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护  无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起10年后,不再受集成电路布图设计保护条例的保护  布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记  
对集成电路布图设计专有权的保护,不延及思想、处理过程、操作方法等  集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生  布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起1年内,未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记  布图设计专有权的保护期为8年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准  
布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起1年内未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记  布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记  无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自其创作完成之日起满10年的,不再受保护  无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自其创作完成之日起满15年的,不再受保护  
只能按自布图设计登记申请之日起计算  只能按自布图设计在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算  自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准  无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,仍然可受保护  
布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起1年内未向国务院学问产权行政部门提出登记申请的,国务院学问产权行政部门不再予以登记  布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未向国务院学问产权行政部门提出登记申请的,国务院学问产权行政部门不再予以登记  无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自其创作完成之日起满10年的,不再受爱护  无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自其创作完成之日起满15年的,不再受爱护  
在以登记为保护条件的成员中,布图设计的保护期间应为自登记之日起10年  在不以登记为保护条件的成员中,布图设计的保护期间自其在世界上任何地方第一次商业利用之日算起不少于10年  以登记为保护条件的成员可以规定,布图设计自创作以后15年,保护应当终止  不以登记为保护条件的成员可以规定,布图设计自创作以后15年,保护应当终止  

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