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受保护的集成电路布图设计应当具有独创性 集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生 对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等 集成电路布图设计专有权的保护期为十五年
10 年， 自布图设计创作完成之日起计算 15 年， 自布图设计登记申请之日起计算 15 年， 自布图设计首次投入商业利用之日起计算 10 年， 自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日 起计算
布图设计专有权经国家知识产权局登记产生 布图设计专有权自创作完成之日起自动产生 布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计登记申请之日起计算 布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计创作完成之日起计算
受保护的集成电路布图设计应当具有独创性 集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生 对集成电路布图没计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等 集成电路布图没讣专有权的保护期为十五年
布图设计专有权的取得方式是登记 布图设计专有权的保护期为10年，自授权公告之日起算 对布图设计专有权可以适用强制许可 对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权 布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效
10年，自布图设计创作完成之日起计算 15年，自布图设计登记申请之日起计算 15年，自布图设计首次投入商业利用之日起计算 10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算
布图设计专有权的保护期为10年 无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，仍然受条例保护 自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较晚日期为准 布图设计专有权属于布图设计创作者 布图设计专有权属于法人或者其他组织的，法人或者其他组织变更、终止后，其专有权在本条例规定的保护期内由承继其权利、义务的法人或者其他组织享有
对集成电路布图设计专有权的保护，不延及思想、处理过程、操作方法等 集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生 布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起1年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记 布图设计专有权的保护期为8年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准
１ ０ 、 １ ５ １ ０ 、 ２ ０ １ ５ 、 ２ ０
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权 外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。 外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。 中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计，可以依照本条例享有布图设计专有权。
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