简述底片暗房冲洗作业流程

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低于等于高于

暗房漏光底片储存时受到射线照射底片受高温或高湿影响以上都对

手沾到定影液后接触到未冲洗的底片手沾到显影液后接触到未冲洗的底片手沾到定影液后接触到未冲洗好的底片手沾到显影液后接触到未曝光的底片

手沾到定影液后接触未冲洗的底片手沾到显影液后接触未冲洗的底片手沾到定影液后接触未曝光的底片以上都可能

可将底片加速干燥防止底片扭曲防止水痕迹以上都对

底片上乳剂层脱落底片上乳剂层不均匀膨胀底片产生大理石斑纹底片上黑度不均匀

手沾到定影液后接触到未冲洗的底片手沾到显影液后接触到未冲洗的底片手沾到定影液后接触到未冲洗好的底片手沾到显影液后接触到未曝光的底片

低于等于高于不确定

底片上乳剂层脱落底片上乳剂层不均匀膨胀底片产生大理石斑纹底片上黑度不均匀

防止底片变形防止底片变黑防止底片水痕水洗之后不可将底片浸到润湿剂

暗房漏光底片储存时受到射线照射底片受高温或高湿影响以上都对

防止底片变形防止底片变黑防止底片水痕水洗之后不可将底片浸到润湿剂

可将底片加速干燥防止底片扭曲防止水痕迹以上都对

手沾到定影液后接触未冲洗的底片手沾到显影液后接触未冲洗的底片手沾到定影液后接触未曝光的底片以上都可能