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掺杂的杂质和沾污的杂质是一样的效果。

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扩散掺杂与离子注入掺杂所形成的杂质浓度分布各自的特点是什么与扩散掺杂相比离子注入掺杂的优势与缺点各是

什么是扩散效应什么是自掺杂效应这两个效应使得衬底/外延界面杂质分布有怎样的变化

SS与浊度都是反映水体中的杂质含量但其反映的杂质含义不一样

对于同时存在一种施主杂质和一种受主杂质的均匀掺杂的非简并半导体在温度足够高ni>>/ND-NA/时半

非本征本征

杂质半导体的导电性能是通过掺杂而大大提高的

本征半导体纯半导体的Eg小于掺杂质半导体

掺杂用离子注入机将所需要的杂质加入到硅片内部并使在硅片中的数量和浓度分布符合预定的要求

玻璃电极在使用前一定要在水中浸泡24h以上其目的是

清洗电极活化电极除去沾污的杂质校正电极

在半导体中掺人微量的有用杂质制成掺杂半导体掺杂半导体有

W型 N型有P型 U型 V型

质量分析要求沉淀物纯净

沉淀中不能含水分子沉淀形式和称量形式完全相同必须是晶体沉淀避免杂质沾污

影响单晶内杂质数量及分布的主要因素是①原材料中杂质的种类和含量②杂质的分凝效应③杂质的蒸发效应④生长

①②④ ②④⑤ ①②④⑤ ①②③④⑤

下列关于后沉淀与其它共沉淀现象的区别正确的是

后沉淀引入杂质的量，随沉淀在试液中放置时间的增长而减少，而其他共沉淀有时有所增加不论杂质是在沉淀之前就存在的，还是沉淀之后加进去的，后沉淀引入杂质的量是一样的温度升高而后沉淀往往更严重后沉淀引入杂质的程度，有时较共沉淀严重得多，在某种情况下，引入杂质可达到和被测组分差不多的重量

糖果种类繁多多种糖果的感官规定内容是不一样昀

组织滋味气味杂质最小单位包装.

汽油清洁性能的评定指标机械杂质与杂质的含义是一样的

pH玻璃电极在使用前一定要在水中浸泡几小时目的在于

清洗电极活化电极校正电极除去沾污的杂质

因为存在着后沉淀现象所以沉淀物的沾污程度

随时间的延长而减少在较高的温度下，沾污较少只要在沉淀物生成后加入杂质才会造成沾污在沉淀前，调节溶液的pH可以控制沾污的发生改变沉淀剂的浓度可以控制沾污的发生

假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-2

对精炼后处理目的描述正确的是

去除杂质，提高纤维使用性能让纤维达到客户要求的回潮使纤维有一样的长度使纤维有一样的纤度

贮存期间沾污的各级水其沾污的主要来源是容器可溶性成分的溶解空气中二氧化硫和其它杂质

在半导体中掺入微量的有用杂质制成掺杂半导体掺杂半导体有

W型 N型和P型 U型 V型

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