当前位置: X题卡 > 所有题目 > 题目详情

金瓷结合界面处理恰当与否关系到金瓷结合强度,因此严格进行正确的处理才能保证PFM冠的质量PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是()

查看本题答案

你可能感兴趣的试题

用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物  用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物  打磨时用细砂针多方均匀地打磨出金瓷结合部要求的外形  禁止使用橡皮轮磨光  用50~100μm的氧化铝喷砂  
非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜  贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜  巴非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜  非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同  理想的氧化膜厚度为0.2~2μm  
用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物  用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物  打磨时用细砂针多方均匀地打磨出金瓷结合部要求的外形  禁止使用橡皮轮磨光  用50~100μm的氧化铝喷砂  
非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜  贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜  非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜  非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同  理想的氧化膜厚度为0.2~2μm  
用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物  用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物  打磨时用细砂针多方均匀地打磨出金瓷结合.部要求的外形  禁止使用橡皮轮磨光  用50~100μm的氧化铝喷砂  
用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物  用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物  打磨时用细砂针多方均匀地打磨出金瓷结合.部要求的外形  禁止使用橡皮轮磨光  用50~100μm的氧化铝喷砂  
用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物  用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物  打磨时用细砂针多方均匀地打磨出金瓷结合.部要求的外形  禁止使用橡皮轮磨光  用50~100μm的氧化铝喷砂  
非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜  贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜  巴非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜  非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同  理想的氧化膜厚度为0.2~2μm  
非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜  贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜  非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜  非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同  理想的氧化膜厚度为0.2~2μm  
用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物  用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物  打磨时用细砂针多方均匀地打磨出金瓷结合.部要求的外形  禁止使用橡皮轮磨光  用50~100μm的氧化铝喷砂  
化学结合力是金瓷结合力的主要组成部分  金属-瓷材料的热膨胀系数要严格匹配,金属的热膨胀系数要略小于瓷的热膨胀系数时有利于金瓷结合  基底冠表面一定的粗糙度对金瓷结合有利  金瓷结合界面间存在分子间力  贵金属基底冠烤瓷前需要预氧化  
非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜  贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜  非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜  非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同  理想的氧化膜厚度为0.2~2μm  
用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物  用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物  打磨时用细砂针多方均匀地打磨出金瓷结合.部要求的外形  禁止使用橡皮轮磨光  用50~100μm的氧化铝喷砂  
用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物  用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物  打磨时用细砂针多方均匀的打磨出金瓷结合部要求的外形  禁止使用橡皮轮磨光  用50~100pm的氧化铝喷砂  
用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物  用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物  打磨时用细砂针多方均匀地打磨出金瓷结合部要求的外形  禁止使用橡皮轮磨光  用50~100μm的氧化铝喷砂  
非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜  贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜  非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜  非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同  理想的氧化膜厚度为0.2~2μm  
化学结合力是金瓷结合力的主要组成部分  金属一瓷材料的热膨胀系数要严格匹配,金属的热膨胀系数要略小于瓷的热膨胀系数时有利于金瓷结合  基底冠表面一定的粗糙度对金瓷结合有利  金瓷结合界面间存在分子间力  贵金属基底冠烤瓷前需要预氧化  
用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物  用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物  打磨时用细砂针多方均匀的打磨出金瓷结合部要求的外形  禁止使用橡皮轮磨光  用50~100pm的氧化铝喷砂  
非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜  贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜  非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜  非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同  理想的氧化膜厚度为0.2~2μm  
非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜  贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜  非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜  非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同  理想的氧化膜厚度为0.2~2μm  

热门试题

更多