未曝光底片的储存应远离放射线还需要考虑-X题卡

温度湿度有效期限以上都是

缩小射线至底片的距离，且将底片紧贴试件增加射线至底片的距离，且将底片紧贴试件缩小射线至底片的距离，且将底片远离试件增加射线至底片的距离，且将底片远离试件

衰变常数半衰期曝光量衰变时间

衰变常数半衰期曝光量衰变时间

增加管电流增加管电压增加曝光时间降低射源至底片的距离

X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、射线能量 X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、曝光量 X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、透照厚度 X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、暗室处理的工艺条件

较低的管电压较多的曝光时间较低的管电流较短的曝光时间

管电压（或放射源种类）以及胶片的衬度特性增感屏的种类以及曝光密度暗室处理和散射线的防止以上都是

聚氯乙烯氯丁橡皮乙丙橡皮氯磺化聚乙烯

增加管电流增加管电压增加曝光时间降低射源至底片的距离

缩小射线至底片的距离，且将底片紧贴试件增加射线至底片的距离，且将底片紧贴试件缩小射线至底片的距离，且将底片远离试件增加射线至底片的距离，且将底片远离试件

聚氯乙烯；氯丁橡皮；氯磺化聚乙烯；交联聚乙烯。

聚氯乙烯氯丁橡皮氯磺化聚乙烯橡皮绝缘

较低的管电压较多的曝光时间较低的管电流较短的曝光时间

未曝光底片的储存应远离放射线，还需要考虑(　)