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锌及锌合金钝化工艺过程中,钝化膜出现不光亮的原因是()。
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电化学工程《电化学工程综合练习》真题及答案
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表面钝化工艺是在半导体芯片表面复盖一层保护膜使器件的表面与周围气氛隔离
铜及合金钝化膜老化温度越高结合力越好
锌镀层低铬钝化后钝化膜容易脱落其主要原因除了溶液的因素外还有
钝化过程中途露空或钝化时间过长
溶液温度低或钝化时间不足
钝化后清洗不干净或老化时间不够
钝化前出光不当
锌及锌合金钝化工艺过程中钝化膜出现颜色极淡的原因是
pH值不准确
处理时间不确当
硫酸含量偏低
工件光亮度太差
为提高铜及铜合金钝化膜的____钝化膜层在经压缩空气吹干后可在70~80℃ 下烘烤5~15min
彩色钝化膜的处理方法很多有低浓度中等浓度和高浓度的铬酸盐处理液但是考虑到环境保护减少重金属铬污染钝化
低浓度铬酸盐
中等浓度铬酸盐
高浓度铬酸盐
以上三种
就酸洗钝化工艺而言资料上或兄弟单位提供的最佳工艺数据可以完全适用 于本单位的具体情况
锌铬涂料经涂覆在固化过程中会发生____反应形成坚固的膜层膜层中锌铝片 层层叠加铬酸对锌铝片包裹钝化
铜及其合金钝化膜色泽不鲜艳膜不牢原因可能是由于____
锌镀层低铭钝化后钝化膜容易脱落其主要原因除了溶液的因素外还有
钝化过程中途露空或钝化时间过长
溶液温度低或钝化时间不足
钝化后清洗不干净或老化时间不够
钝化前岀光不当
锌及锌合金钝化工艺过程中钝化膜出现易脱落或易擦除的原因是
工件表面粗糙
硫酸含量偏低
处理时间过长
处理液温度过高
铜及合金的钝化对钝化膜有穿透作用的是
阴离子
阳离子
阴、阳离子
离子晶体
铜及铜合金采用铬酐硫酸钝化时钝化膜层疏松不光亮易脱落产生的 原因是
硫酸含量过低
硫酸含量过高
铬酐含量偏高
铬酐含量偏低
镀锌层钝化处理的目的一是为了提高锌镀层的表面光亮和美观二是锌镀层 钝化后表面生成的钝化膜可大大提高锌
为提高铜及铜合金钝化膜的附着力和抗蚀性钝化膜层在经压缩空气吹干后 可在____℃下烘烤5~15min
就酸洗钝化工艺而言资料上或兄弟单位提供的最佳工艺数据不可能完全适 用于本单位的具体情况
金属铁锌铝及其合金在磷酸盐溶液中进行处理而形成的一层转化膜是
氧化膜
磷化膜
钝化膜
着色膜
锌铬涂料经涂覆在固化过程中会发生____反应形成坚固的膜层膜层中锌铝片 层层叠加铬酸对锌铝片包裹钝化
镀锌层钝化处理的目的一是为了提高锌镀层的表面光亮和美观二是锌镀层 钝化后表面生成的钝化膜可大大提高锌
铜及其合金钝化时重铬酸钠含量高可能会造成钝化膜____
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纯铜具有物理化学特性有
酸性氯化铜蚀刻液用于蚀刻单面板和多层板的内层
蚀刻温度对蚀刻速率的影响是随着温度的升高蚀刻速率加快
碱性氯化铜蚀刻液pH值过低氮水浓度太低蚀刻速率变慢
酸性氯化铜蚀刻液的再生的最好的方法是双氧水再生法
个别传动轴停传或装配不到位会造成碱性蚀刻的叠板故障情况
镀层增宽是在图形电镀时产生的增宽严重时会产生导线
碱性蚀刻中蚀刻不足可能是喷淋压力不足造成其解决方式为
镀层增宽可以完全避免
印制电路板中的图形蚀刻是指用化学溶液去掉铜箔而得到所需的电路图形的过程
铜在二氧化碳腐蚀性介质中的腐蚀产物为碱性碳酸铜
干法蚀刻通常指利用辉光放电方式产生等离子体来进行图案转移的蚀刻技术其中等离子体含有
简述蚀刻中的注意事项
蚀刻液的主要成分是
黄铜是铜与下列何种金属的合金
在酸性氯化铜蚀刻液体系的再生方法中由于氯气是强氧化剂直接通氯气是再生的最好方法是因为
常温条件下铜的腐蚀速率但随着环境温度升高溶液浓度增加以及溶液中存在溶解氧时对铜及其合金的腐蚀速率会
是由侧面蚀刻而产生的它发生在抗蚀层图形的下面
影响等离子体蚀刻特性好坏的因素包括以下几个方面
能用酸性蚀刻液蚀刻的工件就绝对不用碱性蚀刻液
湿法蚀刻时蚀刻液的腐蚀是各向同性的腐蚀发生在和溶液接触的各个方面
酸性氯化铜蚀刻液的特点是蚀刻速率恒定容易控制
在碱性氯化铜蚀刻中造成蚀刻过度的原因可能有
在不同的条件下铜的腐蚀产物可能有
纯铜的导电性在所有的纯金属中顺序为
在湿法蚀刻中侧蚀是不可避免的所以镀层突沿总是存在的
蚀刻液中只需要含有氯化铜即可达到理想蚀刻要求
只有在图形电镀铅锡的过程中会产生镀层增宽现象
在蚀刻过程中添加某些添加剂可以降低侧蚀程度
青铜是铜与锡的合金叫青铜因色青而得名
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