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经超声清洁后的PFM金属基底放在烤瓷炉内加温除气,除气的目的是

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除气即是用在炉内加热的方法排除合金中残留的气体,并形成氧化膜  贵金属需在半真空下加热10~15分钟即可  非贵金属需在半真空下加热5分钟即可  理想的氧层厚度是0.2~2μm  氧化层厚度与金属-烤瓷结合强度成正变关系  
增强金-瓷的结合强度  增强基底冠的强度  增加基底冠的厚度  利于遮色瓷的涂塑  增强瓷冠的光泽度  
加强金属底层冠的强度  改善陶瓷的强度  加强金一瓷结合力  改善金属表面色泽  加强陶瓷的对光通透性  
喷砂铸造金属基底冠得到的粗糙表面  从包埋材料得到的残留粗糙表面  酸蚀铸造基底冠的表面  除气后表面氧化层的残留缺陷  
去除铸造过程中形成的氧化膜  去除金属基底金属-烤瓷结合面的氧化物  排除合金中残留的气体  避免瓷熔附时出现气泡  在基底表面形成氧化膜  
除气即是用在炉内加热的方法排除合金中残留的气体,并形成氧化膜  贵金属需在半真空下加热10~15分钟即可  非贵金属需在半真空下加热5分钟即可  理想的氧层厚度是0.2~2μm  氧化层厚度与金属-烤瓷结合强度成正变关系  
砂针打磨  喷砂  超声波清洗  除气、预氧化  低温烧结  
除气即是用在炉内加热的方法排除合金中残留的气体,并形成氧化膜  贵金属需在半真空下加热10~15分钟即可  非贵金属需在半真空下加热5分钟即可  理想的氧层厚度是0.2~2μm  氧化层厚度与金属-烤瓷结合强度成正变关系  
除气即是用在炉内加热的方法排除合金中残留的气体,并形成氧化膜  贵金属需在半真空下加热10~15分钟即可  非贵金属需在半真空下加热5分钟即可  理想的氧层厚度是0.2~2μm  氧化层厚度与金属-烤瓷结合强度成正变关系  
去除铸件表面的包埋料  表面机械处理、抛光  清洁处理  表面酸蚀处理  除气、预氧化  以上都不是  

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