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岩溶地区主要应采用综合物探,并在代表性物探异常点布置验证性钻孔 可用轻便型、密集型勘探查明或验证土洞 岩溶地区钻探时岩芯采取率不得小于80% 岩溶地区地下水样试验时,除进行一般项目外,应增加游离CO2和侵蚀性CO2含量分析
单栋高层建筑勘探点不应少于4个 对密集的高层建筑群,每栋高层建筑控制性勘探点数不应少于2个 一般情况下,自基础底面起算的勘探孔深度当基础底面宽度不大于5m时,条形基础不小于基础宽度的3倍,独立基础不小于1.5倍 控制性勘探孔深度应超过变形计算深度
宜在开挖边界外,按开挖深度1~2倍范围内布置勘探点 基坑周边勘探点的深度不宜小于1倍开挖深度 基坑勘探点间距,可在15~30m内选择 基坑勘探点数量不宜小于3个
宜在开挖边界外,按开挖深度1~2倍范围内布置勘探点 基坑周边勘探点的深度不宜小于2倍开挖深度 基坑勘探点间距,可在15~25m内选择 基坑勘探点数量不宜小于3个
对于端承桩和嵌岩桩,勘探点间距宜为12~24m 当相邻勘探点露出的层面高差大于10m时,应适当加密勘探点 对于摩擦桩,勘探点间距宜为20~35m 地质条件复杂时的柱下单桩基础宜每桩设一勘探点
(A) 滑坡勘探采用物探、钻探、坑探相结合的方法,必要时可采用井探或洞探 (B) 勘探点应沿滑坡主轴和垂直主轴方向布置 (C) 在滑坡体外围不应布置勘探点 (D) 当无法采取滑动带原状土样时,可采取保持天然含水量的扰动土样,做重塑土样试验
对于端承桩和嵌岩桩,勘探点间距宜为12~24m 当相邻勘探点露出的层面高差大于10m时,应适当加密勘探点 对于摩擦桩,勘探点间距宜为20~35m 地质条件复杂时的柱下单桩基础宜每桩设一勘探点
大中桥勘探点应沿桥址纵断方向布置,并不应超出墩台基础轮廓线 砂土的密实程度以原位测试为主 当地震峰值加速度大于等于0.1g时,应判定饱和粉土及砂土的液化可能性 一般性钻孔勘探深度应为20~40m,控制性钻孔勘探深度应为30~60m
河港宜垂岸向布置勘探线 海港勘探点可按网格状布置 海港勘探点距宜为100~200m 以上三者均不正确
滑坡勘探采用物探、钻探、坑探相结合的方法,必要时可采用井探或洞探 勘探点应沿滑坡主轴和垂直主轴方向布置 在滑坡体外围不应布置勘探点 当无法采取滑动带原状土样时,可采取保持天然含水量的扰动土样,做重塑土样试验
人为坑洞地区勘探时,应在调查及收集资料的基础上,采用综合物探,辅以钻探,简易勘探等方法 人为坑洞地段勘探时应注意有害气体对人体造成危害 人为坑洞地段勘探深度应超过坑洞深度,最小应超过5~8m 应分别采取地下水及地表水样进行水质分析
勘察范围应在开挖边界外按基坑短边长度的1~2倍范围内布置勘探点 勘察范围应在开挖边界外按基坑开挖深度的1~2倍范围内布置勘探点 基坑周边勘探点深度不宜小于支护结构端的深度 勘探点间距应视底层条件而定,可在15~30m内选择
(A) 人为坑洞地区勘探时,应在调查及收集资料的基础上,采用综合物探,辅以钻探,简易勘探等方法 (B) 人为坑洞地段勘探时应注意有害气体对人体造成危害 (C) 人为坑洞地段勘探深度应超过坑洞深度,最小应超过5~8 m (D) 应分别采取地下水及地表水样进行水质分析
一般情况下,大中桥勘探点应沿桥址纵断方向布置,并不应超出墩台基础轮廓线 砂土应分层取样,进行颗粒分析 当地震峰值加速度不小于0.1g时,应判定饱和粉土及砂土的液化可能性 一般性钻孔勘探深度应为20~40m,控制性钻孔勘探深度应为30~60m
平面工程地质图的比例尺宜为1:2000~1:10 000 测绘范围一般要求上游200~300m,下游至路基外50m 勘探线应顺涎流冰方向布置,每条勘探线设2~3个孔 勘察应主要以钻探为主,必要时进行原位测试工作
勘察范围宜在开挖边界外按基坑短边长度的1~2倍范围内布置勘探点 勘察范围宜在开挖边界外按基坑开挖深度的1~2倍范围内布置勘探点 基坑周边勘探点深度不宜小于支护结构端点的深度 勘探点间距应视地层条件而定,可在15~30m内选择
编录一壁 编录两壁 视地质条件复杂程度,编录东西向或南北向的任意两壁 编录四壁
钻探编录时应及时按土层描述,不得事后追记 对探槽及探井应进行描述,并绘制展开图 对于砂土应描述名称、颜色、湿度、密度、粒径、浑圆度、母岩成分、胶结物、包含物等 野外观察要以手触法为主,必要时可采用现有的标准化定量化方法
勘察范围宜在开挖边界外按基坑短边长度的1-2倍范围内布置勘探点 勘察范围宜在开挖边界外按基坑开挖深度的1~2倍范围内布置勘探点 基坑周边勘探点深度不宜小于支护结构端点的深度 勘探点间距应视地层条件而定,可在15~30m内选择
平面工程地质图的比例尺宜为1:2000~1:10000 测绘范围一般要求上游200~300m,下游至路基外50m 勘探线应顺涎流冰方向布置,每条勘探线设2~3个孔 勘探应主要以钻探为主,必要时进行原位测试工作