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例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。
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材料物理性能《半导体材料》真题及答案
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调光器中固态继电器中的主要器件是
触发二极管
可控硅
发光二极管
三极管
分别例举三个清洁消毒的物理方法和化学方法
扩散性半导体应变计是将N型咋杂质扩散到高阻的P型硅基片上形成一层极薄的敏感层制成的
以P2O5为例多晶硅中杂质扩散的方式及分布情况
哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅描述刻蚀多晶硅的三个步骤
将钢在固态下通过加热保温冷却三个步骤使钢的组织结构发生变化获得所需性能的工艺称为
在空位扩散中如果迁移的空位的原子是杂质原子扩散称为
填隙扩散
杂质扩散
推挤扩散
自扩散
在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源不再有新的杂质补充这种扩散方式称
燃料中固态矿物杂质是
水分
碳
氢
灰分
虽然直至今日我们仍普遍采用扩散区一词但是硅片制造中已不再用杂质扩散来制作pn结取而代之的是离子注入
杂质在硅中的扩散方式有哪些
杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种分别是扩散和扩散杂质只有在成为硅晶格结构的一部分即才有助于形成半导
例举并描述薄膜生长的三个阶段
在硅中固态杂质的热扩散需要三个步骤预淀积推进和激活
硅铁按其含硅量及杂质多少的不同分为三个牌号其中Si75表示含硅量为
75%~78%
72%~80%
70%~80%
请例举三个心理学家提出的心理健康的标准
固体中的扩散模型主要有填隙机制和
自扩散机制
杂质扩散机制
空位机制
菲克扩散方程机制
例举得到半导体级硅的三个步骤半导体级硅的纯度能达到多少
在空位扩散中如果迁移到空位的原子是基质原子扩散属于
推挤扩散
杂质扩散
填隙扩散
自扩散
硅中固态杂质的热扩散需要三个步骤和
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质点在两个相对作匀速直线运动的参考系中的加速度是相同的
刚体平动过程中每一瞬时各点的速度加速度相等
两个动能相同的物体质量大的动量小
自由刚体具有5个自由度
刚体的转动惯量J是矢量不但有大小还有方向
物体只有动量而无能量是可能的
构成刚体的所有质点与地球组成的物体组的重力势能之和称为刚体的重力势能
在某个惯性系中同时同地发生的事件在所有其他惯性系中也一定是同时同地发生的
按照狭义相对论理论运动的时钟比静止的时钟走得快
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物体从高处落到轻质弹簧上以后的运动机械能是不守恒的
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刚体的转动惯量J的大小与转轴位置和刚体的质量分布都有关系
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定轴转动刚体的角动量守恒的条件是刚体所收外力之和为零
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牛顿第一定律谈到静止和匀速直线运动并不是对任何参照系都适用的
雨滴在空气中匀速下落机械能守恒
狭义相对论的两条基本原理是相对性原理和光速不变原理
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刚体定轴转动时刚体上各个质元对轴的角动量的方向都相同
质点作圆周运动时的加速度指向圆心
在某个惯性系中有两个事件同时发生在不同地点而在对该系有相对运动的其他惯性系中这两个事件却一定不同时
定轴转动刚体上的各点都在绕轴上的一点作圆周运动具有相同的角速度
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