金属基底冠桥的预氧化应在除气基础上再加热至预定终点温度在非真空状态下继续维持-X题卡

非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同理想的氧化膜厚度为0．2~2μm

增强金-瓷的结合强度增强基底冠的强度增加基底冠的厚度利于遮色瓷的涂塑增强瓷冠的光泽度

砂针打磨喷砂超声波清洗除气、预氧化低温烧结

非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同理想的氧化膜厚度为0．2～2μm

0．5～1．0min 1～3min 5～10min 20～30min 30min以上

砂针打磨喷砂超声波清洗除气、预氧化低温烧结

非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同理想的氧化膜厚度为0.2～2μm

1min 2min 3min 4min 5min

0.5～1.0min 1～3min 5～10min 20～30min 30min以上

0.5～1.0min 1～3min 5～10min 20～30min 30min以上

非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同理想的氧化膜厚度为0．2～2μm

1～2分钟 3～5分钟 5～10分钟 10～12分钟 12～15分钟

非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同理想的氧化膜厚度为0.2～2μm

18～20min 15～17min 11～13min 5～10min 2～4min

金属基底冠桥的预氧化应在除气基础上再加热至预定终点温度，在非真空状态下继续维持