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单质Z是一种常见的半导体材料,可由X通过如图所示的路线制备.其中X为Z的氧化物;Y为氢化物,分子结构与甲烷相似.回答下列问题: (1)能与X发生化学反应的酸是   ;由X制备Mg2Z的化学方程式...

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最高化合价X>Y.>Z.>W.   气态氢化物的稳定性Z.>Y.>W.   Y.的氧化物与X.、Z.的最高价氧化物对应的水化物均能反应   X.、Z.、W.三种元素形成的化合物一定既含离子键又含共价键  
简单离子半径:W>X>Z   最简单气态氢化物的稳定性:Y化合物XZW中既含离子键又含共价键   Y.的氧化物能与X.的最高价氧化物对应的水化物反应  
对应简单离子半径X.<W.   对应气态氢化物的稳定性Y.<Z.   化合物XZW既含离子键也含共价键   Y的氧化物能与Z.或X.的最高价氧化物对应的水化物反应  
X.、Y.、Z.都是非金属单质   如果X.、Y.都为非金属单质,则Z.必为金属单质   如果X.、Y.都为金属单质,则Z.必为非金属单质   X.、Y.、Z.中至少有一种是金属单质  
化合物XZW既含离子键也含共价键   对应气态氢化物的稳定性:Y>Z   对应简单离子半径:X>W   Y的氧化物能与Z.或X.的最高价氧化物对应的水化物反应  
X.、Y.、Z.三种元素形成的化合物中一定只有共价键   Z.与其同主族的短周期元素形成的常见化合物可与Z.的某种氢化物反应生成强酸   W.元素的某种单质可在电子工业用于生产半导体材料   X.分别与Y.、Z.、W.、M.形成的常见化合物中,稳定性最强的是XM  
原子半径:Y.>Z.>W.   单质的还原性:X.>Y.   溴与元素M.同主族,最高价氧化物的 水化物的酸性比M.的强   元素N.位于金属与非金属的分界线附近,可 以推断N.元素的单质可作半导体材料  

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