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将受保护的布图设计投入商业利用 将含有受保护布图设计的集成电路以及含有该集成电路的物品投入商业利用 对受保护的布图设计的全部进行复制 对受保护的布图设计的任何具有独创性的部分进行复制
受保护的集成电路布图设计应当具有独创性 集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生 对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等 集成电路布图设计专有权的保护期为十五年
注册商标专用权 著作权和与著作权有关的权利 集成电路布图设计专有权 专利权
布图设计专有权经国家知识产权局登记产生 布图设计专有权自创作完成之日起自动产生 布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计登记申请之日起计算 布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计创作完成之日起计算
集成电路布图设计登记申请表 集成电路布图设计的说明书和权利要求书 集成电路布图设计的复制件或者图样 集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品
单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计 对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制 将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用 将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
受保护的集成电路布图设计应当具有独创性 集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生 对集成电路布图没计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等 集成电路布图没讣专有权的保护期为十五年
匡某创作的集成电路布图设计符合受保护的相关规定 倪某申请保护的布图设计不具有独创性 黄某的布图设计不符合《集成电路布图设计保护条例》规定集成电路和布图设计用语定义 外国人Kate创作的布图设计没有首先在中国境内投入商业利用
布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生 未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护 无论是否登记或者投入商业利用，布图设训自创作完成之日起10年后，不再受集成电路布图设计保护条例的保护 布图没计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记
集成电路中须有三个以上元件 集成电路中需至少有一个是有源元件 集成电路布图设计是一种三维配置 集成电路是以半导体材料为基片
对受保护的布图设计的全部进行复制 对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制 将受保护的布图设计投入商业利用 将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用
布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生 未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护 无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起10年后，不再受集成电路布图设计保护条例的保护 布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记
除集成电路布图设计保护条例另有规定外，布图设计专有权属于布图设计创作者 由法人主持，依据法人的意志而创作，并由法人承担责任的布图设计，该法人是创作者 受委托创作的布图设计，委托人和受托人对专有权的归属未作约定或者约定不明的，其专有权由委托人享有 两个以上自然人、法人或者其他组织合作创作的布图设计，合作者对专有权的归属未作约定或者约定不明的，其专有权由合作者共同享有
对受爱护的布图设计的全部进行复制 对受爱护的布图设计的任何具有独创性的部分进行复制 将受爱护的布图设计投入商业利用 将含有受爱护的布图设计的集成电路投入商业利用
对受保护的布图设计的全部进行复制 对受保护的布图设计的任何具有独创性的部分进行复制 将受保护的布图设计投入商业利用 将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用
权利要求书 说明书 说明书附图 布图设计的复印件或者图样
某大学教授赵某为教学目的而复制甲公司受保护的布图设计 乙公司将自己独立创作的与甲公司受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用 丙公司为商业目的复制甲公司受保护的布图设计中具有独创性的部分 丁公司为商业目的销售含有甲公司受保护的布图设计的集成电路
为个人目的而复制受保护的布图设计 为研究目的而复制受保护的布图设计 在评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计 对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用
明确指出集成电路布图设计是创作者自己的智力劳动成果 规定了集成电路布图设计专有权内容、权利归属、保护期限等 在纠纷解决机制上允许当事人自由协商 规定权利人可以申请采取财产保全措施的诉前措施 明确未经登记的集成电路布图设计也应受条例保护
受保护的集成电路布图设计应当具有独创性 受保护的集成电路布图设计应当具有美感 对集成电路布图设计的保护不延及思想、解决过程、操作方法或者数学概念 国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作
湘公网安备 43130202000226号