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自动曝光控制的电离室利用了X线的()。

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计数管型  正比计数管型  电离室型  指型电离室型  闪烁体型  
球管窗口处  遮线器内部  肢体与滤线栅之间  滤线栅与暗盒之间  胶片暗盒的背面  
硒晶硅  电离室式  光电计式  多丝正比室  闪烁晶体  
可采用荧光体型探测器  可采用电离室型探测器  可减少人为条件选择不当的失误  可自动切断X线的产生  多在一钮制设备中使用  
人体前  暗盒后  球管前  人与滤线栅间  滤线栅与暗盒间  
利用气体的电离效应  X线强度大时,电离电流大  X线强度大时,曝光时间长  电容充电电流与X线曝光量成反比  电离电流小时,曝光时间长  
可采用荧光体型探测器  可采用电离室型探测器  可减少人为条件选择不当的失误  可自动切断X线的产生  多在一钮制设备中使用  
计数管型  正比计数管型  电离室型  指型电离室型  闪烁体型  
机械式  电子式  数字式  电离室式  闪烁晶体  
球管窗口处  遮线器内部  肢体与滤线栅之间  滤线栅与暗盒之间  胶片暗盒的背面  
可采用荧光体型探测器  可采用电离室型探测器  可减少人为条件选择不当的失误  可自动切断X线的产生  多在一钮制设备中使用  
液体探测器  液体探测器  电离室探测器  晶体探测器  金属探测器  
根据被照体厚薄预先确定曝光量  有电离室式探测器  AEC的管电压特性与所用屏/片体系的管电压特性有关  有半导体式探测器  探测器的采光野位置应根据摄影部位选择  
人体前  暗盒后  X线管前  X线管后  人与暗盒间  

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