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下列()不是MDEA与CO2所致降解产物
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天然气净化操作工考试《天然气净化操作工技师》真题及答案
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在关于石灰岩溶蚀机理的分析中下列提法是错误的
石灰岩溶蚀速度与CO2扩散进入水中的速度有关
石灰岩溶蚀速度随着温度增高加快
降水通过含有机物的土壤下渗后溶蚀作用减弱
石灰岩的成因是因为岩溶泉水在出口处吸收外界CO2所致
炼钢过程中碳氧反应生产的产物是CO2
CO2气体保护焊CO气孔的产生是由于CO2气体被分解出CO气体所致
在可能影响MDFA降解速率的因素中是主要的
MDEA浓度
操作温度
操作压力
CO
2
分压
在水稻叶肉细胞的细胞质基质线粒体基质和叶绿体基质中产生的代谢产物分别是[]
丙酮酸、CO2、葡萄糖
丙酮酸、葡萄糖、CO2
CO2、丙酮酸、葡萄糖
葡萄糖、丙酮酸、CO2
下列有关Ⅰ型呼吸衰竭叙述正确的是
为换气功能障碍所致,缺氧不伴CO2潴留,PaO2<60mmHg,PaCO2正常或下降
为通气功能障碍所致,缺氧伴CO2潴留,PaO2<60mmHg,PaCO2>50mmHg
为换气功能障碍所致,缺氧不伴CO2潴留,PaO2<60mmHg,PaCO2>50mmHg
为通气功能障碍所致,缺氧伴CO2潴留,PaO2<60mmHg,PaCO2正常或下降
为换气功能障碍所致,缺氧伴CO2潴留,PaO<60mmHg,PaCO2>50mmHg
氰氨基化钙是一种重要的化工原料其制备的化学方程式为CaCO3+2HCN=CaCN2+CO↑+H2↑+
CO为氧化产物,H2为还原产物
CaCN2中含有非极性键
HCN既是氧化剂又是还原剂
每消耗10g CaCO3生成2.24L CO2
指出下列物质中哪一组合为光合碳还原循环所必需
Ch1、CO2、H2O
ATP、CO2、O2
CO2、ATP、NADPH
下列是MDEA氧化降解产物
环氧乙烷
三甲胺
甲醇
乙酸盐
微生物分解代谢产物为H2OCO2CO等
当酸气中H2S和CO2含量不高CO2/H2S≤6并且同时脱除H2S和CO2时应采用
MEA
MDEA
MEA和混合胺
DIPA
活化MDEA溶液能够吸收CO2
将CO2气体缓缓地通入到含KOHBaOH2和KAlO2的混合溶液中直至过量生成沉淀的物质的量与所通C
o—a段反应的化学方程式是:Ba(OH)2 + CO2 = Ba CO3↓+ H2O
b—c段反应的离子方程式是: 2AlO2-+ 3H2O+ CO2=2Al(OH)3↓+ CO32-
a—b段与c—d段所发生的反应相同
d—e段沉淀的减少是由于碳酸钡固体的消失所致
当酸气中VCO2/VH2S≤5且需要选择性脱除H2S时应采用或其配方溶液脱硫
MEA法
MDEA法
DEA法
DIPA法
指能够为微生物分解的塑料分解的产物为CO2H2O或一些低分子化合物
生物可降解塑料
聚交酯
光降解塑料
环境可降解塑料
MDEA选择性的限制因素是CO2共吸率
当天然气中CO2/H2S比较高时可采用来满足克劳斯制硫
MEA
DEA
MDEA
砜胺法
某原料天然气H2S含量为0.2%体积分数CO2含量为1%体积分数采用MDEA法处理后净化气中CO2含
将CO2气体缓缓地通入到含KOHBaOH2和KAlO2的混合溶液中直至过量生成沉淀的物质的量与所通C
o—a段反应的化学方程式是:Ba(OH)2 + CO2 = Ba CO3↓+ H2O
b—c段反应的离子方程式是:2AlO2-+ 3H2O+ CO2=2Al(OH)3↓+ CO32-
a—b段与c—d段所发生的反应相同
d—e段沉淀的减少是由于碳酸钡固体的消失所致
醇胺的降解产物只包括在CO2氧某些有机硫化物及高温等因素的作用下转化为失去活性成为有害的物质
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天然气经分子筛脱水后干气水含量通常可达1ml/m3相当于mg/m3
对于醋酸纤维素膜下列物质中的渗透速率最高的是
在脱水深度要求高的工况下分子筛脱水工艺应使用的再生气是
TEG的比循环量通常为每千克水循环TEG
下列吸附剂不宜用于酸性天然气脱水的是
为了预防胺法装置的腐蚀应尽量使用介质
当TEG的PH值降低时应加入如TEA等碱性中和剂调节其PH值在范围
在天然气行业英文缩写字母CNG代表
胺法装置中的设备构件使用不锈钢材料的是
Drizo共沸蒸馏最高可使贫TEG浓度达到
贫TEG的入塔温度应比塔内气体温度高
最早使用的天然气脱水剂是
我国CNG的水露点执行的现行标准是
在一定的温度下随体系压力上升天然气中以mg/m3计的饱和水含量
当操作压力和操作温度不变时循环量和塔板数固定时TEG浓度越高脱水率
BTEX是几中芳烃的缩写下列哪种芳烃不属于其中
分子筛脱水装置至少有个吸附器
在下列几种脱水吸附剂中吸附剂选择性强
当操作压力和操作温度不变时塔板数和TEG浓度固定循环量愈大则露点降
目前新兴的有广泛应用前景的天然气脱水方法是
在__凝析气井井口宜采用的脱水法是
采用共沸蒸馏典型的TEG贫液提浓装置Drizo工艺中净化气露点可达
经过中试装置和工业装置腐蚀监测结果几种砜胺溶液的腐蚀性
净化厂通常使用作为装置建设的基本材料
砜胺Ⅱ型溶液变动溶液组成其腐蚀速率
下列不是氯化钙法脱水装置特点的是
溶液循环量最高不应超过L/kg水
分子筛脱水工艺中用于再生的气流露点愈高则要达到一定的再生质量所需要的再生温度
防止或减缓三甘醇装置设备腐蚀的关键是
TEG对芳烃有良好的亲和力在25℃下对下列芳烃完全溶解的是
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