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控制溶液的pH值 络合掩蔽法 氧化还原掩蔽法 沉淀掩蔽法
掩蔽剂不与待测离子配合中,或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性 干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定 在滴定待测离子所控制的酸度范围内掩蔽剂应以离子形式存在,应具有较强的掩蔽能力 掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的,不影响终点的判断
干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的 干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小 掩蔽剂应不与被测离子配位，或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性 滴定要求的pH范围内，具有很强的掩蔽能力
络合掩蔽法 沉淀掩蔽法 氧化还原掩蔽法 酸碱掩蔽法
控制酸度法 配位掩蔽法 氧化还原掩蔽法 沉淀掩蔽法
控制酸度法 配位掩蔽法 氧化还原掩蔽法 沉淀掩蔽法
氨水、掩蔽体、沉淀剂 掩蔽体、氨水、沉淀剂 掩蔽体、沉淀剂、氨水 无需考虑试剂加入顺序
掩蔽剂不与待测离子配合，或与待测离子形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性 干扰离子和掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比待测离子和EDTA形成的配合物更稳定 在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在，应具有较强的掩蔽能力 掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的，不影响终点的判断
沉淀掩蔽法 氧化还原掩蔽法 络合掩蔽法 控制碱度法
掩蔽剂不与待测离子配合，或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性 干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定 在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在，应具有较强的掩蔽能力 掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的，不影响终点的判断
配位掩蔽剂必须可溶且无色 氧化还原掩蔽剂必须改变干扰离子的价态 掩蔽剂的用量越多越好 掩蔽剂最好是无毒的
络合掩蔽； 沉淀掩蔽； 氧化-还原掩蔽； 滴定掩蔽。
控制溶液的pH值 络合掩蔽法 氧化还原掩蔽法 沉淀掩蔽法
控制酸度法 配位掩蔽法 氧化还原掩蔽法 沉淀掩蔽法
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