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关于O/W型乳剂基质的错误表述为

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O/W型基质软膏中的药物释放与透皮吸收较  O/W型乳剂型软膏剂也称为“冷霜”  乳剂型基质有水包油(O/W)和油包水(W/O)型两种  肥皂类为O/W型乳剂基质的乳化剂  乳剂基质的油相多为固相  
O/W型乳剂基质中常需加入保湿剂、防腐剂  O/W型乳剂基质中的药物释放与穿透较其他基质快  对皮肤的正常功能影响小  适用于有较多分必物的皮肤  
乳剂基质由水相、 油相、 乳化剂三部分组成  分为 W/O、 O/W 二类  W/O 乳剂基质被称为“冷霜”  O/W 乳剂基质被称“雪花膏”  湿润性湿疹适宜选用 O/W 型乳剂基质  
O/W型乳剂基质不易霉变,制备时不需要加防腐剂  W/O型乳剂基质有“反向吸收”现象  O/W型乳剂基质可用于分泌物较多的病灶  O/W型乳剂基质易蒸发失去水分使乳膏变硬,故需加入保湿剂  O/W型乳剂基质可选用高分子溶液作乳化剂  
O/W 型乳剂型软膏剂也称为 “ 冷霜 ”  乳剂型基质有水包油 (O/W) 型和油包水 (W/O) 型两种  乳剂基质的油柏多为固相  O/W 型基质软膏中的药物释放与透皮吸收较快  肥皂类为 O/W 型乳剂基质的乳化剂  
O/W型基质软膏中的药物释放与透皮吸收较快  O/W型乳剂型软膏剂也称为“冷霜”  乳剂型基质有水包油(O/W)型和油包水(W/O)型两种  肥皂类为O/W型乳剂基质的乳化剂  乳剂基质的油相多为固相  
O/W型乳剂基质可选用高分子溶液作乳化剂  HLB为7~9的表面活性剂易形成O/W型基质  W/O乳剂基质“有反向吸收”现象  O/W乳剂基质可使用于分泌物较多的病灶  O/W型乳剂基质因外相水易蒸发变硬,故需加入保湿剂  
常用油相为石蜡、蜂蜡与高级脂肪醇等  可用液状石蜡、凡士林等调节油相稠度  W/O型乳剂基质含水量较大  常用保湿剂为甘油、丙二醇、山梨醇等  常用乳化剂为表面活性剂  
一价皂为阴离子型表面活性剂  乳剂基质的油相多为固体或半固体状  O/W型乳剂基质可称为“冷霜”  O/W型乳剂基质含水量大,无需使用保湿剂  硅酮对药物的释放与穿透皮肤性能较凡士林好  
乳剂基质的油相多为固相  乳剂型基质有水包油(O/型和油包水(W/型两种  O/W型乳剂型软膏剂也称为“冷霜”  O/W型基质软膏中的药物释放与透皮吸收较快  肥皂类为O/W型乳剂基质的乳化剂  
乳剂基质的油相多为固相  乳剂型基质有水包油(O/W)型和油包水(W/O)型两种  O/W型乳剂型软膏剂也称为“冷霜”  O/W型基质软膏中的药物释放与透皮吸收较快  肥皂类为O/W型乳剂基质的乳化剂  
O/W型乳剂基质可称为“冷霜”  乳剂基质的油相为固体或半固体状  O/W型乳剂基质含水量大,无需使用保湿剂  硅酮对药物的释放一穿透皮肤性能较凡士林好  HLB值为15-18的一价皂易形W/O型的乳剂基质  
W/O型乳剂基质>O/W型乳剂基质>动物油脂>植物油>烃类基质  吸水性软膏基质>O/W型乳剂基质>W/O型乳剂基质>动物油脂>植物油  吸水性软膏基质>W/O型乳剂基质>O/W型乳剂基质>动物油脂>植物油  W/O型乳剂基质>吸水性软膏基质>O/W型乳剂基质>植物油>动物油脂  O/W型乳剂基质>W/O型乳剂基质>动物油脂>植物油>烃类基质  
O/W型基质软膏中的药物释放与透皮吸收较快  O/W型乳剂型软膏剂也称为“冷霜”  乳剂型基质有水包油(O/型和油包水(W/型两种  肥皂类为O/W型乳剂基质的乳化剂  乳剂基质的油相多为固相  
聚乙二醇基质  O/W型乳剂基质  水溶性基质  油脂性基质  W/O型乳剂基质  
O/W 型乳剂基质软膏剂也称为 “冷霜”  O/W 型乳剂基质软膏中的药物释放与透皮吸收较快  钠肥皂为 O/W 型乳剂基质的乳化剂  乳剂基质的油相多为固体  乳剂型基质有水包油 (O/W)型和油包水 (W/O)型两种  
O/W型乳剂基质不易霉变,制备时不需要加防腐剂  W/O型乳剂基质有“反向吸收”现象  O/W型乳剂基质可使用于分泌物较多的病灶  O/W型乳剂基质因外相水易蒸发变硬,故需加入保湿剂  O/W型乳剂基质可选用高分子溶液作乳化剂  
二甲基硅油无刺激性,是制备眼膏剂的优良基质  凡士林、石蜡同属于饱和烃混合物  可用液状石蜡来调节凡士林的吸水性  羊毛脂可吸收2倍的水形成O/W型乳剂基质  液状石蜡可用于乳剂基质的油相以调节稠度  
硅酮对药物的释放与穿透皮肤性能较凡士林好  乳剂基质的油相为固体或半固体状  O/W型乳剂基质可称为“冷霜”  HLB值为15~18的一价皂易形W/O型的乳剂基质  O/W型乳剂基质含水量大,无需使用保湿剂  
O/W型乳剂基质因外相水易蒸发变硬,故需加入保湿剂  W/O型乳剂基质有“反向吸收”现象  O/W型乳剂基质可使用于分泌物较多的病灶  HLB为7~9的表面活性剂易形成O/W型基质  O/W型乳剂基质可选用高分子溶液作乳化剂  

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