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一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是

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患者上颌局部义齿修复义齿初戴时发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm处理方法是

取下腭杆腭杆组织面缓冲腭杆组织面加自凝树脂重衬不做任何处理取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复义齿初戴时发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm处理方法是

取下腭杆腭杆组织面缓冲腭杆组织面加自凝树脂重衬不做任何处理取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复初戴时发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm处理方法是

不必处理腭杆组织面加自凝树脂重衬腭杆组织面缓冲去除腭杆，让患者将义齿戴走取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

某患者上颌局部义齿修复义齿初戴时发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm处理办法是

取下腭杆腭杆组织面做缓冲腭杆组织面加自凝树脂重衬不做任何处理取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复义齿初戴时发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm处理方法是

不做处理，让患者将义齿戴走腭杆组织面加自凝树脂重衬腭杆组织面缓冲取下腭杆取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复义齿初戴时发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm处理办法是

取下腭杆腭杆组织面做缓冲腭杆组织面加自凝树脂重衬不做任何处理取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

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