首页
试卷库
试题库
当前位置:
X题卡
>
所有题目
>
题目详情
对集成电路封装形式进行小结,并收集信息是什么?
查看本题答案
包含此试题的试卷
集成电路制造工艺员《集成电路制造工艺员(三级)》真题及答案
点击查看
你可能感兴趣的试题
集成电路封装工艺流程有哪些
请说明集成电路DIP封装结构具有哪些特点有哪些结构形式
集成电路制造通常包括集成电路设计工艺加工封装等工序
集成电路的封装形式及外形有多种DIP表示封装形式
单列直插式
贴片式
双列直插式
功率式
集成电路封装的类型非常多样化按管壳的材料可以分为金属封装和塑料封装
集成电路的封装形式及外形有多种SMD表示封装形式
单列直插式
贴片式
双列直插式
功率式
下面的叙述中错误的是
现代信息技术的主要特征是采用电子技术进行信息的收集、传递、加工、存储、显示和控制
现代集成电路使用的半导体材料主要是硅
集成电路的工作速度主要取决于组成逻辑门电路的晶体管数量
当集成电路的基本线宽小到纳米级时,将出现一些新的现象和效应
集成电路的封装形式及外形有多种SIP表示封装形式
单列直插式
贴片式
双列直插式
功率式
下面的叙述中错误的是
现代信息技术的主要特征是采用电子技术进行信息的收集、传递、加工、存储、显示与控制
现代集成电路使用的半导体材料主要是硅
集成电路的工作速度主要取决于组成逻辑门电路的晶体管的数量
当集成电路的基本线宽小到纳米级时,将出现一些新的现象和效应
集成电路封装有哪些作用
集成电路的加工过程的基本操作是什么
著名的集成电路分析程序是什么有哪些著名公司开发了集成电路设计工具
集成电路最常用的封装材料有三种其中使用最多的封装形式是封装
下列有关IC卡说法正确的是
将一个集成电路芯片封装成卡的形式的集成电路卡
可以一卡多用
属于非接触式卡
分为接触式卡和非接触式卡
不属于非接触卡
集成电路的封装形式有和三种类型
总结使用集成电路的注意事项是什么
试叙述SMD集成电路的封装形式并注意收集新出现的封装形式
集成电路有哪些封装形式分别如何安装
集成电路封装种类有很多种下列属于集成电路封装形式的有
普通型
特殊型
陶瓷扁平
兼容型
在一个晶圆上分布着许多块集成电路在封装时将各块集成电路切开时的切口叫
热门试题
更多
分析器是一种分选器
单晶硅刻蚀一般采用做掩蔽层以氟化氢为主要的刻蚀剂氧气为侧壁钝化作用的媒介物
损伤的分布与注入离子在在靶内的的分布密切相关
离子散射方向与入射方向的夹角称为
在刻蚀过程中假如我们在CF5的等离子体内加入适量的氧气能够提高刻蚀的速率
当注入剂量增加到某个值时损伤量不再增加趋于饱和开始饱和的注入剂量称为
晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性超薄的使得在刻蚀多晶硅电极时对它的刻蚀要尽可能的小
就是用功率密度很高的激光束照射半导体表面使其中离子注入层在极短的时间内达到高温消除损伤
在磁分析器中常用分析磁铁
刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被覆盖及保护的部分以化学作用或是物理作用的方式加以去除以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的
在生产过程中必须使用来完成浅沟槽隔离STI
溅镀法因为其阶梯覆盖的能力不良很容易造成因填缝不完全所留下的
为了防止抽气设备对离子注入系统的油污染可在靶室前增加一个或采用无油泵
专指薄膜形成的过程中并不消耗晶片或底材的材质
通常情况下我们改变工艺条件使刻蚀进行中的刻蚀速率尽量低
大硅片上生长的的不均匀和各个部位刻蚀速率的不均匀会导致刻蚀图形转移的不均匀性
在各种离子源常用的放电方式中EOS是指有
下列组合中哪一种基本上用于刻蚀前者的干刻蚀法大都可以用来刻蚀后者
下列哪些因素会影响临界注入量的大小
的气体源中一般包含H+C+B+Cl+O+等离子
为了避免在经过氯化物等离子体刻蚀之后的残留物使其发生腐蚀必须在刻蚀完毕之后再增加一道工序来除去这些表面残留物
电离气体与普通气体的不同之处在于后者是由电中性的分子或原子组成的前者则是和中性粒子组成的集合体
离子注入装置的主要部件有分析器加速聚焦系统等
请在下列选项中选出多晶硅化金属的英文简称
Torr是指的单位
铜与铝相比较其性质有
静电偏转电极和静电扫描器都是电容器
下列材料中电阻率最低的是
在半导体工艺中如果淀积的薄膜不是连续的存在一些空隙则
引出系统要求能引出分散性较好的强束流还希望具有较的气阻
热门题库
更多
计算机维修工
集成电路制造工艺员
数据通信机务员
华为规范考试
电子仪器仪表装配工考试
计控员考试
通信电力机务员
网络编辑师考试
中国联通考试
信息安全等级测评师
SMT(表面贴装技术)工程师
业余无线电台操作技术能力验证考试
笔记本多技能认证考试
无线电调试工考试
中国南方电网通信技术
百度SEM认证考试