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硅是一种重要的半导体材料,应用范围广.三氯硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程如图所示: (1)写出上述流程中一种氧化物的化学式:   ; (2)上述流程中最后一步反...

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三甲基一氯硅烷属于有机物   保存三甲基一氯硅烷时应密封防水   三甲基一氯硅烷由碳、氢、硅、氯四种原子构成   三甲基一氯硅烷溶于水,所得溶液的pH小于7  
砷化镓  硅  磷  锢  
三氯甲硅烷(SiHCl3)属于有机物   上述流程中可循环使用的物质是H2、HCl   “精馏”是蒸馏的一种,其原理是利用混合物成分的密度不同  从粗硅到SiHCl3(粗)的化学反应方程式为:Si + HCl SiHCl3 + H2   
三甲基一氯硅烷属于有机物   保存三甲基一氯硅烷时应密封防水   三甲基一氯硅烷由碳、氢、硅、氯四种原子构成   三甲基一氯硅烷溶于水,所得溶液的pH小于7  
保存三甲基一氯硅烷时应密封防水   三甲基一氯硅烷由碳、氢、硅、氯四个原子构成   三甲基一氯硅烷属于化合物   三甲基一氯硅烷充分燃烧的产物之一是二氧化碳  

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