当前位置: X题卡 > 所有题目 > 题目详情

 制作个别托盘适用于下列情况

查看本题答案

你可能感兴趣的试题

功能性印模时,个别托盘边缘线应比基托边缘线短2~3mm  个别托盘覆盖范围尽可能大  个别托盘与黏膜之间可预留间隙也可不预留间隙  骨隆突处应做缓冲  个别托盘最后应打磨抛光送回临床  
个别托盘  义齿重衬  暂时冠桥  嵌体  腭护板  
可用自凝塑胶制作  在初印模上制作  可用患者旧义齿制作  上颌个别托盘后堤区不要超过颤动线  下颌个别托盘应包过磨牙后垫及下颌舌骨线  
所有取无牙颌印模的情况下  无合适成品托盘时  牙槽略低平、两侧吸收不一致  牙槽嵴过于低平  取研究模型时  
二次印模的初印模  二次印模的终印模  一次印模  个别托盘的边缘整塑  以上均可  
可用自凝塑胶制作  在初印模上制作  可用患者旧义齿制作  上颌个别托盘后堤区不要超过颤动线  下颌个别托盘应包过磨牙后垫及下颌舌骨线  
功能性印模时,个别托盘边缘线应比基托边缘线短2~3mm  个别托盘覆盖范围尽可能大  个别托盘与黏膜之间可预留间隙也可不预留间隙  骨隆突处应做缓冲  个别托盘最后应打磨抛光送回临床  
功能性印模时,个别托盘边缘线应比基托边缘线短2~3mm  个别托盘覆盖范围尽可能大  个别托盘与黏膜之间可预留间隙也可不预留间隙  骨隆突处应做缓冲  个别托盘最后应打磨抛光送回临床  
可用自凝塑胶制作  在初印模上制作  可用患者旧义齿制作  上颌个别托盘后堤区不要超过颤动线  下颌个别托盘应包过磨牙后垫及下颌舌骨线  
所有取无牙颌印模的情况  无合适成品托盘时  牙槽嵴低平,两侧吸收不一致  牙槽嵴过于丰满  取研究模型时  
所有取无牙颌印模的情况下  无合适成品托盘时  牙槽略低平、两侧吸收不一致  牙槽嵴过于低平  取研究模型时  

热门试题

更多