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将具有交换能力的阳树脂和阴树脂按一定比例混合后,装在聚氯乙稀或有机玻璃做的圆柱形交换柱内,自来水()通过交换柱就能称为高纯度去离子水。
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集成电路制造工艺员《集成电路制造工艺员(三级)》真题及答案
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选择混合床用的离子交换树脂时应选阳阴两种树脂的湿真比重差越大越好以便于反洗后的分层
弱碱性阴离子交换树脂在PH值为的范围内才具有较好的交换能力
离子交换工序树脂失效一定是因其交换能力达到饱和
复合床和混合床可以串联使用复合床就是指将阳树脂和阴树脂分别装在两个内串接起来
交换柱
混合床
混合柱
复合柱
当对除盐水质要求高时混合床中所用的树脂必须是
强酸阳树脂和弱碱阴树脂
弱酸阳树脂和强碱阴树脂
弱酸阳树脂和弱碱阴树脂
强酸阳树脂和强碱阴树脂
混合床运行时阴阳树脂在交换器内是均匀混合的
树脂含水率越小表明树脂
交联度越低
交换能力越低
活性基团越多
交换能力越大
下列离子交换树脂中其交换能力与PH值不相关的是
弱酸树脂
弱碱树脂
强酸、强碱树脂
螯合树脂
树脂含水率越大表明树脂
交联度越大
交换能力越低
活性基团越少
交换能力越大
再生比耗是指恢复树脂一定交换能力与所需理论理论再生剂量之比
碱耗是指恢复失效阴树脂的交换能力所耗用碱的质量
使交换器内树脂重新具有交换能力的过程叫再生
混合离子交换树脂的鉴别中硫酸铜的溶液需要酸化其目的是防止树脂与Cu2+络合也形成浅绿色干扰对树脂的鉴
弱碱性阳,阴
弱碱性阴,阳
强酸性阳,阳
强碱性阴,阳
有氢型阳离子交换树脂和氯型阴离子交换树脂混合样2ml加入经过1%硫酸酸化的10%溶液5ml放置5分钟
树脂呈浅绿色为阳树脂,树脂不变色为阴树脂
树脂呈浅绿色为阴树脂,树脂不变色为阳树脂
树脂呈浅绿色为阳树脂,树脂深绿为阴树脂
树脂呈深绿为阳树脂,树脂浅绿为阴树脂
下列关于离子交换树脂选用的说法中正确的是
树脂的交换容量越大,单位体积树脂处理的水量就越大
对于只需去除进水中吸附交换能力较强的阳离子,可选用弱碱型树脂
对于混床,应选用湿真密度相差较大的阴、阳树脂
同一种树脂的交换容量不受所处理废水的悬浮物、油类、高价金属离子及高分子有机物等含量的影响
粉末树脂覆盖过滤器中粉末树脂是以高纯度高剂量的再生剂进行 再生了的未转型后的强酸阳树脂和强碱阴树脂粉
混床内填装的阳阴树脂分别采用和阳阴树脂并按比例混合
树脂变质后可通过复苏处理恢复树脂的交换能力
在钠型树脂进行交换过程中水中的钙镁离子比较容易和树脂中的钠离子进行交换然而以钠离子去再生被钙镁离子所
酸耗是指恢复失效阳树脂的交换能力所耗用酸的质量
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对于浓度覆盖很宽的杂质原子可以采用方法引入到硅片中
下列哪些因素不会影响到显影效果的是
在热扩散工艺中的预淀积步骤中硼在900~1050℃的条件下扩散时间大约为宜
降低靶的温度有利于非晶层的形成所以临界注入量随之
晶片经过显影后进行坚膜坚膜的主要作用有
光刻工艺中脱水烘焙的最初温度是
关于正胶和负胶的特点下列说法正确的是
通常热扩散分为两个大步骤其中第一个步骤是
用电容-电压技术来测量扩散剖面分布是用了的原理
光刻胶主要由等不同材料混合而成的
半导体硅常用的施主杂质是
去正胶常用的溶剂有
在集成电路工艺中光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是
HeOHNa等元素在900℃下在二氧化硅中的扩散率大于10-13cm2/s这些元素称为
在深紫外曝光中需要使用光刻胶
在确定扩散率的测结深实验中结深的测量是采用HF和的混和液对磨斜角进行化学染色的
在热扩散工艺中的预淀积步骤中砷和锑的扩散温度为
涂胶以后的晶片需要在一定的温度下进行烘烤这一步骤称为
离子源腔体中的气体放电形成而引出正离子的
如果固体中的原子排列情况是紊乱的就称之为
一般用测量注入的剂量
光刻的主要工艺流程按照操作顺序是
按曝光的光源分类曝光可以分为
半导体芯片生产中离子注入主要是用来
下列可作为磷扩散源的是
恒定表面浓度的条件下在整个扩散期间保持恒定表面浓度
半导体硅常用的受主杂质是
在空位扩散中如果迁移到空位的原子是基质原子扩散属于
菲克一维扩散定律公式中的J是代表单位面积溶质
下列关于曝光后烘烤的说法正确的是
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