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标准电离室的工作气体是()

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电离室的方向性、杆效应及温度气压的影响  电离室的工作电压、杆效应及温度气压的影响  电离室的工作电压、方向性、杆效应及温度气压的影响  电离室的工作电压、方向性、一致性及温度气压的影响  
电离室测量与电离室的工作电压无关;电离室测量时不具有方向性  电离室测量与电离室的工作电压有关;电离室测量时不具有方向性  电离室测量与电离室的工作电压无关;电离室测量时具有方向性  电离室测量与电离室的工作电压有关;电离室测量时具有方向性  电离室测量与电离室的灵敏体积无关;电离室测量时不具有方向性  
电离室的方向性、杆效应及温度气压的影响  电离室的工作电压、杆效应及温度气压的影响  电离室的工作电压、方向性、杆效应及温度气压的影响  电离室的工作电压、方向性、杆效应及温度气压的影响  电离室的工作电压、方向性、一致性及温度气压的影响  
测定的半价层必须是直接用于治疗的射线  不加吸收片测量强度时和加吸收片测量半价时的条件应保持相同  吸收板的位置要靠经电离室  电离室周围不应有产生散射的物质  射野面积应尽量减小,以能包括电离室的灵敏体积为限  
人体前  暗盒后  球管前  人与滤线栅间  滤线栅与暗盒间  
电离室区  正比区  有限正比区  连续放电区  G–M区  
电离室区  正比区  有限正比区  连续放电区  G-M区  
比例计数器  半导体检测器  电离室  盖格-缪勒计数器  
利用气体的电离效应  X线强度大时,电离电流大  X线强度大时,曝光时间长  电容充电电流与X线曝光量成反比  电离电流小时,曝光时间长  
气体电离室  非晶硒  非晶硅  CCD  
随射野增大而减小;可直接用电离室在空气中测量  随射野增大而减少;可直接用带有建成套的电离室在空气中测量  随射野增大而增加;可直接用电离室在空气中测量  随射野增大而增加;可直接用带有建成套的电离室在空气中测量  随射野增大而减少;不能直接用电离室在空气中测量  
利用闪烁晶体将X射线转换成可见光,再把可见光转换成电子能  利用闪烁晶体将X射线转换成电子能  利用气体电离室直接将X射线转换成电子能  利用气体电离室间接将X射线转换成电子能  利用固体将X射线转换成电子能  
电离室的放置必须平行于患者的纵轴  电离室应该与X射线束垂直  电离室须放置在专用的体模外测量  对体模的每个插孔需依次分别测量  通常取各插孔测量的平均值作为一次扫描的剂量  
电离室的放置应平行于患者纵轴  电离室的放置应与X射线束平行  电离室须放置在专用体模内测量  体模各部位所测的射线剂量不同  常用体模为直径16cm和32cm两种  
人体前  暗盒后  X线管前  X线管后  人与暗盒间  

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