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当缺陷尺寸小于射源尺寸时,才需要引入ζ 对底片对比度进行修正 ζ 值越小,几何条件对底片对比度的影响越大 为提高ζ 值而改变透照布置,常用的方法是增大焦距 为提高底片对比度,应尽量采用ζ >1 的透照布置
降低X射线管的管电流 增大X射线管的管电流 降低X射线管的管电压 增大X射线管的管电压
当缺陷尺寸小于射源尺寸时,才需要引入σ对底片对比度进行修正; σ值越小,几何条件对底片对比度的影响越大; 为提高σ而改变透照布置,常用的方法是增大焦距; 为提高底片对比度,应尽量采用σ>1的透照布置。
降低X 射线管的管电流 增大X 射线管的管电流 降低X 射线管的管电压 增大X射线管的管电压
增大焦距 降低X 射线管的管电流 降低X 射线管的管电压 以上都不对
当缺陷尺寸小于射源尺寸时,才需要引入σ对底片对比度进行修正 σ值越小,几何条件对底片对比度的影响越大 为提高σ值而改变透照布置,常用的方法是增大焦距 为提高底片对比度,应尽量采用σ>1的透照布置
X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、射线能量 X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、曝光量 X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、透照厚度 X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、暗室处理的工艺条件
大焦点、近距离 小焦点、较长的焦距 高管电压、低管电流 低管电压、高管电流
大焦点、近距离 小焦点、较长的焦距 高管电压、低管电流 低管电压、高管电流